日本学術振興会薄膜第131委員会

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議事録

1．趣旨・目的
　薄膜の作製技術は原子尺度の制御ができるまでに発展し、その応用も産業界のあらゆる分野に及んでいる。そのため、薄膜技術は今や多くの先端技術を支える重要な技術であり、また新たなる発展をもたらす牽引力となっている。
　本委員会は、このような認識の下に、薄膜技術を活用する、あるいは活用しようとしている企業に、最新の知識や情報を提供することを第一の目的としている。さらに、薄膜技術の普及と若手研究者・技術者の教育･育成や国際交流に資すると共に、プロジェクト研究等の産学協同研究を行うことにより、薄膜分野のさらなる発展に寄与することを目的としている。

２．研究テーマ

1) 薄膜作製技術に関する研究

2) 薄膜の物性・機能に関する研究

3) 薄膜の評価・分析に関する研究

4) 薄膜応用に関する研究

5) 薄膜技術の普及と若手研究者・技術者の教育・育成や国際交流に資する活動

３．委員長
近藤高志（東京大学先端科学技術研究センター教授）
　(期間：平成28年4月1日－現在)

歴代委員長

４．委員会構成およびワーキンググループ(WG)
委員数：74名（2018年4月現在）委員名簿

WG1：エネルギー　　　　　　主査　杉山正和（東京大学）
WG2：環境・生活・バイオ　　主査　德田崇（東京工業大学）
WG3：情報・通信　　　　　　主査　斉藤伸（東北大学）
WG4：薄膜形成・機能・計測　主査　須田淳（名古屋大学）
５．活動概要
　学界産業界の第一線で活躍中の研究者で構成された企画委員会を中心に，現在重要かつ注目されている課題を抽出し，委員間で十分な検討をおこなって研究テーマを設定している。特に，企業の委員からの積極的なテーマ提案を尊重しており，この設定したテーマを中心に年５回の研究会を開催している。さらに，薄膜技術の普及と若手研究者の教育を主眼とした薄膜工学セミナー（旧薄膜スクール）を年１回開催している。また，海外研究者とのシンポジウムやワークショップの開催，産学協同でのプロジェクト研究をおこなっている。
[研究会]
　現在重要とされ，注目されている課題について，企画委員会を中心に・eーマを設定して，年５回研究会を開催している。
[薄膜工学セミナー（旧薄膜スクール）]
　薄膜技術の普及と若手研究者の教育を目的に，２日間のセミナーを年１回開催している。
[プロジェクト研究]
　安田元委員長を責任者として未来開拓研究「次世代ULSI用薄膜材料の開発とナノスケールプロセスインテグレーション」を実施し，多くの成果をあげ，所期の目的達成した。
[産学共同研究]
　重要かつインパクトのあるテーマに関して，産学共同研究の立案と実施のための準備をおこなっている。

６．委員会の実績
６．１　昭和36年度～平成29年度
研究会：計288回開催
薄膜工学セミナー（旧薄膜スクール）：計36回開催

分科会：磁性薄膜分科会9回開催
　　　　　有機薄膜分科会開催
国際会議：
第4回（平成７年，中国），第5回（平成10年，中国），第6回(平成13年，中国)中日薄膜シンポジウム開催
中日薄膜ワークショップ（平成9年，東京）開催
第8回薄膜固体表面国際会議（平成8年，大阪）共催
ULSI薄膜国際ワークショップ（平成10年，名古屋）開催
「シリコンエピタキシーとヘテロ構造」合同国際会議（平成１１年，蔵王）主催
「次世代ULSIの薄膜技術」国際ワークショップ（平成12年，伊勢志摩）共催
「次世代半導体デバイスの為の急速熱プロセス」（平成13年，伊勢志摩）共催

産学共同研究：「機能性薄膜の形成技術の開発と応用」の実施とその成果報告書発行（平成８年３月）
未来開拓研究：「次世代ULSI用薄膜材料の開発とナノスケールプロセスインテグレーション」（プロジェクトリーダ　安田幸夫委員）を実施

６．２　活動報告　　
平成29年度活動報告　

過去の活動報告

平成21年以前の活動報告

６．３　・o版書籍
薄膜工学第３版(丸善)
薄膜工学第２版(丸善)
７．研究会資料（委員会限定）
平成29年度

８．入会，委員交代，社名・所属変更等

産学Webシステム
システム概要
会員規約

９．運営内規
内規

1)	薄膜作製技術に関する研究
2)	薄膜の物性・機能に関する研究
3)	薄膜の評価・分析に関する研究
4)	薄膜応用に関する研究
5)	薄膜技術の普及と若手研究者・技術者の教育・育成や国際交流に資する活動

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